中紫外直接光刻設備研制成功

　　近日，一種新型的中紫外直接光刻機由中國科學院光電技術研究所微電子專用設備研發(fā)團隊在國內研制成功。該設備采用特有的高均勻、高準直中紫外照明技術，結合光敏玻璃材料，實現(xiàn)基于光敏玻璃基底的微細結構直接加工，能夠極大簡化工藝流程，將有力促進光敏玻璃微細結構的光刻工藝技術“革命”，目前在國內尚未見有此類產品成功研發(fā)的報道。

　　光刻設備是用于微細結構加工的核心設備，在微電子、生物、醫(yī)學和光學等領域得到全面應用。由于光刻工藝的限制，原有光刻設備大多是針對光刻膠曝光進行技術研發(fā)。而針對玻璃基底的微細結構加工具有特殊性：光敏玻璃光譜敏感特性不同于光刻膠、微細結構深寬比大和完全非接觸曝光。近年來，針對玻璃基底的微細加工技術愈發(fā)重要，在微流控芯片、微光學元件以及OLED顯示屏等新型微細結構的加工中需求迫切，也是國內外光刻設備研發(fā)的重要方向之一。因此，光電所微電子專用設備研發(fā)團隊聯(lián)合國內外科研機構，開展了汞燈光源、大口徑高精度反射鏡、中紫外鍍膜和間隙測量等技術研發(fā)，成功提高了汞燈光源中紫外光譜能量，通過反射式光路結構保證光能利用率和準直性，精密間隙測量和控制技術實現(xiàn)非接觸曝光，并進行了光敏玻璃直接光刻實驗，實現(xiàn)了玻璃基底高分辨、高深寬比、大面積微細結構的直接光刻工藝。

　　該設備的成功研制，是光刻設備研發(fā)與光刻工藝應用結合的產物，將促進光刻工藝的革命性改進，符合國際光刻設備研究發(fā)展趨勢，也使得我國在新型直接光刻設備研發(fā)中搶占先機。